테스, 삼성전자·SK하이닉스 신규 팹 투자에 '고성장'…"디램·낸드·HBM까지 전방위 수혜"

"중장기 보유 가능한 전공정장비 업체 중 최선호주…높은 실적 가시성 기대"

"중장기 보유 가능한 전공정장비 업체 중 최선호주…높은 실적 가시성 기대"

[프라임경제] 하나증권은 14일 테스(095610)에 대해 1분기 어닝 서프라이즈와 함께 제품 믹스 개선이 확인된 가운데, 고객사들의 신규 팹(Fab) 투자로 인해 높은 실적 가시성이 기대되고 있어 '중장기적으로 보유 가능한 전공정장비 업체 중 최선호주'라며 투자의견 '매수'를 유지했다.

ⓒ 테스

목표주가는 올해와 내년 주당순이익(EPS)을 각각 51%, 46% 올리며 기존 11만7000원에서 17만6000원으로 상향했다.

하나증권에 따르면 테스의 올해 1분기 매출액과 영업이익은 지난해 동기 대비 각각 15% 늘어난 972억원, 36% 성장한 222억원을 기록했다. 

매출액은 시장 전망치에 부합했으며, 영업이익은 추정치를 23% 상회하며 눈에 띄는 수익성 개선을 이뤄냈다.

이 같은 실적의 호조의 주된 배경은 제품 믹스 개선이라는 분석이다. 

지난해부터 고온 비정질탄소박막(ACL) 장비 비중이 지속적으로 확대되며 이익률 개선에 기여했다. 특히 이번 분기에는 해외 고객사향 매출 비중이 미미해 고수익성 장비 위주의 제품 믹스 개선을 명확하게 파악할 수 있었다는 평가다.

고객사의 신규 투자도 호실적을 견인하고 있다. 

김록호 하나증권 연구원은 "삼성전자의 P4, SK하이닉스의 M15X 신규 투자에 고가의 장비가 잘 공급됐다"며 "양사 모두 1c나노 전환 투자 및 낸드(NAND) 고단화 투자가 예상보다 빠르고 많이 집행되면서 연중 수혜가 지속될 것"이라고 짚었다.

이에 올해 연간 매출액은 지난해 대비 31% 증가한 4600억원, 영업이익은 83% 급증한 1057억원으로 전망했다. 

김 연구원은 "하반기 추가적인 성장 모멘텀 등 투자자들이 주목할 만한 요소들도 다수 존재한다"며 "하반기에는 BSD(Back Side Deposit) 장비가 낸드뿐만 아니라 고대역폭메모리(HBM)로 공급될 것으로 기대돼 추가적인 제품 믹스 개선도 가능할 것"이라고 강조했다.

또한 "삼성전자와 SK하이닉스, 디램(DRAM)과 낸드향으로 균형 잡힌 매출 비중을 보이고 있어 전방위적 수혜가 발휘되는 해가 될 것"이라고 진단했다.

아울러 테스의 1분기 말 기준 수주잔고액은 1455억원으로 전 분기 412억원 및 최근 3년 평균치 409억원을 크게 상회하며 압도적인 실적 가시성을 입증했다.

마지막으로 "2027년 이후에도 SK하이닉스의 용인 팹(Fab)과 삼성전자 P5향 수혜가 지속될 것으로 예상돼 향후 3개년간 가시성 높은 실적 성장이 기대된다"고 조언했다.