시노펙스, 반도체 100나노급 UPE 국산화 성공 '최초 공개'

머리카락 1000분의 1 기공사이즈 "2023년 50나노급 필터 개발 주력"

시노펙스가 오는 7일까지 코엑스에서 개최되는 스마트비즈엑스포에서 100나노급 UPE 필터 제품을 공개한다. ⓒ 시노펙스

[프라임경제] 시노펙스(025320)가 그동안 전량 수입에 의존하던 100나노급 UPE 필터 국산화에 성공, 최초로 제품을 공개한다.

시노펙스는 오는 7일까지 코엑스에서 개최되는 스마트비즈엑스포에서 100나노급 UPE 필터 제품을 공개한다고 4일 밝혔다.

스마트비즈엑스포는 삼성전자(005390)가 중소기업을 후원하는 차원에서 중소벤처기업부, 중소기업중앙회와 함께 진행하는 행사로, 약 100여 업체가 후원을 받아서 제품 전시 및 판매 상담 등이 진행된다. 

시노펙스가 이번에 개발한 UPE필터는 반도체 생산의 핵심공정인 PR(포토레지스트) 공정에 사용되는 제품으로, PR케미컬의 불순물을 걸러주는 역할을 하는 필터다.

   

시노펙스 관계자는 "반도체 제조공정 특성상 미세한 파티클 관리가 제품의 수율을 좌우한다"며 "반도체 회로선폭이 미세해지면서 파티클을 걸러주는 미세한 필터가 필수적으로 필요하지만, 그동안 100나노급 UPE 필터의 경우 전량 해외수입에 의존해 왔다"고 말했다.

 

시노펙스는 이번 제품에 △성인 평균 머리카락 굵기의 1000분의 1에 해당하는 100나노급 미세 기공사이즈 구현 △멤브레인 강화기술 및 리크 예방 기술 등을 적용했다. 또한 100% 완전성 검사를 통해 자체기술로 개발하는데 성공했다.

 

노시갑 시노펙스 부사장은 "시노펙스는 전처리 공정에 사용되는 POU필터, CMP 필터를 국산화해 삼성전자에 공급하고 있다"며 "그 동안 멤브레인 필터의 지속적인 기술 개발을 통해 반도체 생산에 가장 핵심으로 분류되는 PR공정용 필터국산화에 성공했다"고 강조했다.

이어 "PR공정용 100나노급 필터는 기존 일본과 미국회사에서 전량 수입하는 상황"이라며 "이번에 핵심필터 국산화를 통해 한국 반도체 산업경쟁력 강화에 일조할 수 있게 됐다"고 덧붙였다.

   

시노펙스는 이번 100나노급 UPE필터 국산화 성공을 계기로 2023년에는 50나노급 UPE 필터를 개발해 업계 선두의 경쟁력을 지속적으로 강화해 나간다는 전략이다.  

   

한편 시노펙스는 첨단 반도체 생산라인에 사용되는 고성능 필터를 마스크에 적용한 프리미엄급 제품을 개발해 '시노텍스'라는 브랜드로 판매 중이다. 

이번 100나노급 필터 개발을 기념해 반도체용 필터와 마스크를 함께 전시회에 선보이며, 오는 7일 스마트비즈엑스포 사무국에서 후원하는 네이버 라이브 방송을 통해 할인이벤트를 진행할 계획이다.