테스, 박막제조방법 특허취득

[프라임경제] 테스(095610)는 24일 가스배기시스템 및 반도체 제조장치를 이용한 박막제조방법에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.

특허권 취득(자율공시)

1. 특허명칭	가스배기시스템 및 반도체 제조장치 및 및 이를 이용한 박막제조방법
2. 특허 주요내용	본 특허에 따른 반도체 제조장치에 의해 다음과 같은 효과를 볼 수 있다. ①반응 가스가 샤워헤드에 균일하게 분포되고, 빠르게 히터 위의 기판상에 분사될 수 있고, ②반응 가스가 샤워헤드를 통해 기판에 도달하는 시간을 최소화 하여 반응이 일어나는 온도가 안정화되는 시간을 최소화할 수 있으며, ③장비의 유지 보수 시간 및 비용을 절감시킬 수 있다.
3. 특허권자	주식회사 테스
4. 특허취득일자	2010-08-20
5. 특허 활용계획	1.장비 제조시 특허기술 적용을 통한 경쟁력 강화 2.기술경쟁력 및 원가경쟁력 향상
6. 확인일자	2010-08-24
7. 기타 투자판단에 참고할 사항	상기 특허는 중국 특허임.