삼성전자, 화성 '반도체 EUV'라인 착공…올해만 36조 시설투자

EUV 생산 라인 구축해 7나노 이하 미세공정 기술 리더십 강화

[프라임경제] 삼성전자(005930)가 60억달러(약 6조4400억원)를 투자해 경기도 화성에 반도체 EUV 라인을 건설한다.

이는 이달 초 경기도 평택 반도체 단지 내 제2공장 착공이 결정된 후 나온 올해 두 번째 대규모 투자계획이다. 제2공장에는 총 30조원이 투자되는 것으로 알려졌다.

삼성전자는 23일 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 열고 본격적으로 라인 건설에 착수했다.

이번에 착공하는 화성 EUV라인은 내년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 2020년부터 가동할 예정이다. 이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 장비가 본격 도입된다.

삼성전자는 향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 기대하고 있다. 

EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론, 회로 형성을 위한 공정 수가 줄어 생산성도 높일 수 있다.

삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일·서버·네트워크·HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도할 계획이다.

화성 EUV라인의 초기 투자규모는 건설비용 포함 2020년까지 60억달러 수준으로 삼성전자는 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자를 추진할 계획이다.

김기남 삼성전자 DS부문장(사장)은 "이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이라고 말했다.

이어 "삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여하겠다"고 덧붙였다.