[프라임경제] 테스(095610)는 24일 프라즈마 처리장치에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.
특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 플라즈마 처리장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허에 의하면 다음과 같은 효과가 있다. 챔버의 내부 상측에 마련된 상부 전극의 가장자리에 기판 센서의 광을 가이드하기 위한 가이드 홀이 마련되어 상부 전극의 방해 없이 기판 위치를 정확히 알 수 있기 때문에 ①기판의 정렬 오차를 보다 줄일 수 있고 ②상부전극과 하부전극의 간격을 보다 정밀하게 제어할 수 있으므로, 이를 통해 공정효율을 극대화할 수 있으며, ③기판의 상하 에지 및 측면뿐만 아니라 기판의 배면 전체에 존재하는 파티클 및 퇴적물도 효과적으로 제거할 수 있다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 테스 |
| 4. 특허취득일자 | 2010-08-24 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허는 반도체식각장비와 관련된 것으로 본 특허기술을 장비 제조 및 개발에 활용하여 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 향상시킬 계획임. |
| 6. 확인일자 | 2010-08-24 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |
