[프라임경제] 테스(095610)가 반도체장비 제조에 쓰이는 플라즈마 처리장치의 특허권을 취득했다고 12일 공시했다.
특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 플라즈마 처리장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허에 따르면, 플라즈마 기판의 배면에 직접 플라즈마 가스를 공급하여 플라즈마를 발생시키고, 플라즈마를 기판의 배면과 하부 전극 사이에 가두어 줌으로써, 플라즈마의 분포 밀도를 높여 공정 시간을 단축시키고 공정 효율을 높일 수 있다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 테스 |
| 4. 특허취득일자 | 2010-07-12 |
| 5. 특허 활용계획 | 1.반도체장비 제조시 특허기술 적용을 통한 경쟁력 강화 2.기술경쟁력 및 원가경쟁력 향상 3.반도체 및 태양전지 장비 개발에 활용 |
| 6. 확인일자 | 2010-07-12 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |
